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学术动态

中科院微电子所韦亚一研究员来我校讲学

时间:2020-11-17 来源:信息学院 供稿:张静 浏览: 字体:

11月13日,应信息学院邀请,中国科学院微电子研究所韦亚一研究员,在博远楼236智慧教室做了题为《先进IC光刻技术发展趋势》的学术讲座。

韦亚一研究员由浅入深地将师生引入集成电路(Integrated Circuit,IC)光刻技术,介绍了光刻设备的组成结构,不同子系统间实现完整光刻的相互协作机制;讲解了从28nm的50层光刻,到现在7nm的80层光刻,甚至更精细的结构下,光刻对先进工艺的要求;评述了不同设备对于光刻要求的处理实现,及光刻工艺和前后单项工艺的衔接问题;比较了ASML不同机型对应的技术节点,各种传感器、曝光系统、浸没系统和环境系统等的不同之处。最后,韦亚一研究员与同学们进行了交流互动,为同学们解答了关于光刻技术发展的一些疑惑,拓展了同学们的学术视野。

韦亚一,研究员、博士生导师,中国科学院微电子研究所计算光刻研发中心主任;曾在美国能源部橡树岭国家实验室、德国英飞凌公司美国纽约研发中心、美国安智公司新泽西研发中心、美国格罗方德公司纽约研发中心等知名企业与研究机构工作,具有丰富的先进光刻研发经验,取得了多项核心技术。

编辑:左芳舟


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